KEMS3260 ICP-OES laitetekniikka (2 op)
Osaamistavoitteet
Kurssin j盲lkeen opiskelija kykenee tekem盲盲n mittausmetodin ICP-OES 鈥搇aitteelle. Opiskelija kykenee my枚s valitsemaan erilaisille n盲ytteille sopivan n盲ytteensy枚tt枚systeemin sek盲 s盲盲t盲m盲盲n laiteparametrit sellaisiksi, ett盲 mittaustulos on luotettava. Opiskelija osaa my枚s laskea mittauksille toteamisrajan sek盲 m盲盲ritysrajan. T盲m盲n lis盲ksi opiskelija tiet盲盲 miten spektraalih盲iri枚it盲 voidaan korjata.
Suoritustavat
Luennot, demonstraatiot laboratoriossa ja loppuseminaari.
厂颈蝉盲濒迟枚
K盲yt盲nn枚n ICP-OES 鈥揳nalytiikan harjoittelu. Mittausmetodin tekeminen, mittausparametrien optimointi, plasman robust olosuhteiden optimointi, erilaisten n盲ytetaustojen vaikutus mittauksiin mm. valittaviin mittausaallonpituuksiin sek盲 sumutinkammioihin ja sumuttimiin. Spektraalih盲iri枚iden korjaus IEC ja MSF menetelmill盲.
尝颈蝉盲迟颈别诲辞迟
Kurssi korvaa aiemman KEMS319 ICP-OES Workshop -kurssin.
Oppimateriaalit
Luentomuistiinpanot
Arviointiperusteet
Luennoille osallistuminen, osallistuminen ryhm盲ty枚skentelyyn laitedemonstraatioiden aikana sek盲 esitelm盲 loppuseminaarissa.
Esitietovaatimukset
Analyyttisten menetelmien syvent盲v盲 kurssi (KEMS3240), uusiutuvien luonnonvarojen ja elinymp盲rist枚n kemian syvent盲v盲t harjoitusty枚t (KEMS6800)